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Product catalog

激光測量設備

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飛秒鎖模光纖激光器
飛秒鎖模光纖激光器產(chǎn)生線性極化近變換限制脈沖，脈沖持續(xù)時間為 200 fs，重復頻率為 80 MHz，平均功率為 1 W。

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電鏡薄膜網(wǎng)格
電鏡薄膜網(wǎng)格（載網(wǎng)膜）是透射電鏡常用的耗材之一，主要作用是在電鏡觀察時負載小尺度的樣品。微孔膜網(wǎng)格具有一系列不同的孔徑，排列在方形網(wǎng)格上，不同的設計，具有不同的間距（節(jié)距）?？钻嚵幸哉叫蜸iNx膜窗口為中心，窗口以標準TEM網(wǎng)格的框架為中心。

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Herriott Cell — 赫里奧特池
MesaPhotonics 公司提供的Herriott Cell — 赫里奧特池是一款超緊湊、預對準的產(chǎn)品，方便客戶使用，可以在幾分鐘內(nèi)設置好。它可以提供一個6m的光程長度，但結(jié)構(gòu)只有30cm長，重量僅400g,包含光纖準直器和探測器。只需將激光器的光纖連接到準直器上，將同軸電纜連接到探測器上，就可以開始運行了。不需要額外的光學或校準。該產(chǎn)品適合戶外遠距離測量，比如部署在機載無人機上。

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SEM刻蝕子系統(tǒng)
SEM刻蝕子系統(tǒng)：XENOS刻寫子系統(tǒng)是一種允許設計圖案數(shù)據(jù)并產(chǎn)生用于帶電粒子束（例如用于半導體光刻應用或聚焦離子束系統(tǒng)的電子束）轉(zhuǎn)向的相應偏轉(zhuǎn)信號的系統(tǒng)?？梢赃B接到傳統(tǒng)的掃描電子顯微鏡、FIB或雙光設備上，升級系統(tǒng)，在半導體或其他材料上進行納米光刻。

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超分辨共聚焦模塊
超分辨共聚焦模塊：LIVE-SR基于具有在線處理的光學解調(diào)結(jié)構(gòu)化照明技術，與轉(zhuǎn)盤共聚焦相結(jié)合，能夠以高速和低光毒性實現(xiàn)超分辨率成像，使其成為高分辨率活細胞成像的理想解決方案。此外，由于光調(diào)制的性質(zhì)，沒有產(chǎn)生線或圖案偽影，采集的圖像可以獲得超分辨率圖像。

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全自動近場光束分析儀
全自動近場光束分析儀：AUT-NFBP 系列的近場光束分析儀為 Cinogy INSIDE 產(chǎn)品解決方案之一，內(nèi)置有高性能的 CinCam 系列光斑分析儀相機，以及測量功能和算法非常強大的 RayCi 控制軟件，適配有電動導軌，是一款全自動的近場光束分析儀

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光斑功率測量儀
光斑功率測量儀：AUT-BPPM-LP 系列的激光功率和光斑測量儀為 Cinogy INSIDE 產(chǎn)品解決方案系列之一，內(nèi)置有高性能的 CinCam 系列光斑分析儀相機，以及測量功能和算法非常強大的 RayCi 控制軟件，適配有功率計，是一款激光功率和光斑的多功能測量儀。

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900-930nm光纖放大器
900-930nm光纖放大器產(chǎn)品特點：寬帶增益：30dB（900~930nm）；CW飽和輸出：200mW；PM光纖輸出：PER:100； Max脈沖能量：1μJ @100kHz；Max峰值功率：1kW@1ns-100kHz；關于脈沖放大的驗證數(shù)據(jù)；可變?nèi)核俣妊舆t器（可選）

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眼科激光設備
眼科激光設備-激光器本身封裝在一個優(yōu)雅耐用的金屬外殼中。激光設備配有 iPad mini，用于設置治療和控制激光。用戶界面經(jīng)過優(yōu)化，易于使用，同時符合醫(yī) 用激光器的嚴格要求。

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多波長激光平臺
多波長激光平臺：全上zui通用的多通道、多適應癥和云連接醫(yī)療激光器。ML7710 支持所有已知的光敏劑和用戶友好的自校準功能。治療流程可以根據(jù)特定需求進行定制，確保zui終的患者安全和舒適。

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激光二極管-
深紫外激光二極管-：波長范圍 250nm-355nm；輸出功率范圍：1mW至100mW；效率高，高達20%；堅固緊湊的設計；數(shù)字、即時開/關、2ns 上升時間；靈活的配光和傳輸；使用壽命長，可靠性高；易于集成到便攜式系統(tǒng)中；ISO9001：2008 和 NSF AS9100 認證；應用包括紫外線固化、光療、消毒、水凈化、熒光光譜、生物分析和檢測、傳感器和監(jiān)視器。

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深紫外斯托克斯偏振態(tài)測量儀
深紫外斯托克斯偏振態(tài)測量儀：在紫外波長（180nm-200nm）范圍內(nèi)基于雙PEM（光彈調(diào)制器）的偏振測量系統(tǒng)為量化光的斯托克斯參數(shù)提供精度與靈敏度。該科研級高精度stokes測量系統(tǒng)可實現(xiàn)每秒超100組標準化斯托克斯參數(shù)集獲取。一次測量生成4個斯托克斯參數(shù)。該系統(tǒng)在光學元件表征、光學系統(tǒng)光束輸出表征、天文學、光纖制造、光源和激光質(zhì)量控制等方面具有廣泛的應用。

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